EMS 150TES 高真空蒸镀磁控离子溅射仪

EMS150TES为紧凑的分子涡轮泵镀膜系统,适合SEM、TEM及许多镀膜应用主要特点: ● 金属溅射或碳蒸发一体化设计,节省空间 ● 适合FE-SEM制样的精细镀膜和薄膜应用 ● 涡轮分子泵高真空系统,适合不氧化贵金属和易氧化其它金属靶材 ● 全自动触摸屏控制,快速数据输入,操作简单 ● 可储存多个客户自定义镀膜方案:对多用户实验室十分理想 ● 预编程自动真空控制 ● 使用膜厚监控选件精确

EMS150TES为紧凑的分子涡轮泵镀膜系统,适合SEMTEM及许多镀膜应用


主要特点

金属溅射或碳蒸发一体化设计,节省空间

适合FE-SEM制样的精细镀膜和薄膜应用

涡轮分子泵高真空系统,适合不氧化贵金属和易氧化其它金属靶材

全自动触摸屏控制,快速数据输入,操作简单

可储存多个客户自定义镀膜方案:对多用户实验室十分理想

● 预编程自动真空控制

● 使用膜厚监控选件精确控制膜厚

智能系统识别,自动感知用户所插入镀膜头的类型

Drop-in式快速换样品台(标配旋转台)

真空闭锁功能,让工作腔室在待机使用时亦处于真空状态

● 不破坏真空条件下的溅射时间可长达60分钟,适合材料科研应用

人体工程学设计,整体成型机壳,维护、拆装容易

带有本地FTP服务器连接的以太网端口,程序更新简单

设有功率因素补偿,有效利用电能,降低运行成本

CE认证

技术参数

工作腔室:150mm内径 x 127mm

触摸屏全图像用户界面

样品台:标配旋转台

真空系统:

涡轮分子泵:带有空气冷却的涡轮分子泵

旋转机械泵:双程旋转机械泵

溅射电流:0-150mA;可预设膜厚或使用内置定时器

溅射时间:最长60分钟

金属蒸发/光阑清洁头:用于钨丝篮或金属热蒸发。

尺寸和重量:仪器机箱585mmx 470mm x 410mm (总高: 650mm)

仪器总重量:33.4Kg



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