EMS 150TES 高真空蒸镀磁控离子溅射仪

EMS150TES为紧凑的分子涡轮泵镀膜系统，适合SEM、TEM及许多镀膜应用

主要特点: 

● 金属溅射或碳蒸发一体化设计，节省空间

● 适合FE-SEM制样的精细镀膜和薄膜应用

● 涡轮分子泵高真空系统，适合不氧化贵金属和易氧化其它金属靶材

● 全自动触摸屏控制，快速数据输入，操作简单

● 可储存多个客户自定义镀膜方案：对多用户实验室十分理想

● 预编程自动真空控制

● 使用膜厚监控选件精确控制膜厚

● 智能系统识别，自动感知用户所插入镀膜头的类型

● Drop-in式快速换样品台（标配旋转台）

● 真空闭锁功能，让工作腔室在待机使用时亦处于真空状态

● 不破坏真空条件下的溅射时间可长达60分钟，适合材料科研应用

● 人体工程学设计，整体成型机壳，维护、拆装容易

● 带有本地FTP服务器连接的以太网端口，程序更新简单

● 设有功率因素补偿，有效利用电能，降低运行成本

● CE认证

技术参数: 

● 工作腔室：150mm内径 x 127mm高

● 触摸屏全图像用户界面

● 样品台：标配旋转台

● 真空系统：

涡轮分子泵：带有空气冷却的涡轮分子泵

旋转机械泵：双程旋转机械泵

● 溅射电流：0-150mA；可预设膜厚或使用内置定时器

● 溅射时间：最长60分钟

● 金属蒸发/光阑清洁头：用于钨丝篮或金属热蒸发。

● 尺寸和重量：仪器机箱585mm宽x 470mm长 x 410mm高 (总高: 650mm)

● 仪器总重量：33.4Kg