208HR高分辨离子溅射仪

208HR高分辨离子溅射仪为场发射扫描电镜应用中遇到的各种样品喷镀难题提供真正的解决方案。

场发射扫描电镜观察时，样品需镀上极其薄、无细晶且均匀的膜层以消除电荷积累，并提高低密度材料的对比度。为了将细晶的尺寸减小到最小程度，208HR提供了一系列的镀膜材料，并对膜厚和溅射条件提供无可媲美的控制。

208HR分子涡轮泵高真空系统提供宽范围的操作压力，可以对膜层的均匀性和一致性进行精确控制，并最大程度减小充电效应。高/低样品室的结构设计使靶材和样品之间的距离调节变得极为方便。

MTM-20高分辨膜厚控制仪分辨率小于0.1nm，其作用是对所镀薄膜的厚度进行精确控制，它尤其适合场发射电镜对膜厚（0.5－3nm）的要求。

场发射扫描电镜镀膜推荐的靶材是：

· Pt/Pd：非导电样品镀膜的通用镀膜材料

· Cr：优良的半导体样品的镀膜材料

· Ir：优良的真正无细晶的镀膜材料

208HR系统为得到最佳高分辨镀膜效果提供了多种配置选择，可配备标准的旋片泵或提供干净真空的无油涡旋式真空泵，标配的208HR包含Cr 和 Pt/Pd靶。

一、主要特性

· 可选择多种镀膜材料

· 精确的膜厚控制

· 样品台控制灵活：可对样品台进行独立的旋转、行星式转动、倾斜控制，保证形貌差异大的样品也能得到最佳的镀膜效果。

· 多个样品座：提供4个样品座，每个样品座直径32mm，可装载多达6个小样品座。

· 样品室几何可变： 样品室几何用于调节镀膜的速率（1.0nm/s ～ 0.002nm/s）

· 宽范围的操作压力：独立的功率和压力调节，氩气的压力大小范围为0.2 - 0.005 mbar。

· 紧凑、现代的桌上型设计

· 操作容易

二、技术参数